High Quality Planar Sputtering Target

Introduktion IKS tilvejebringer højkvalitets plane sputteringmål til en bred vifte af anvendelser til ferromagnetiske, komplekse oxider og halvledende film. Vores mål tilbydes i forskellige renhedsniveauer, der passer til dine specifikke krav med en minimums renhed på 99,5% op til 99,99% for ...

Send forespørgsel
Hent

Produkt introduktion

Introduktion

IKS giver højkvalitets plane sputteringmål til en bred vifte af anvendelser til ferromagnetiske, komplekse oxider og halvledende film. Vores mål tilbydes i forskellige renhedsniveauer, der passer til dine specifikke krav med en renhed på mindst 99,5% til 99,99% for rene elementer og legeringer.

Ved at vedtage avancerede hot isostatiske presse (HIP), vakuum sintring og vakuum smeltende teknologier, er de plane sputtering mål fra IKS præget af høj renhed, høj densitet, homogen sammensætning, fin kornstørrelse og lang levetid. Vi overvåger hvert trin (fra råmaterialerne til de færdige produkter) for at sikre, at kun højkvalitetsmål kan sendes fra vores fabrikker.

IKS fremstiller alle former og størrelser af høje kvalitet planmæssige mål. Lad os vide det materiale og de dimensioner, du har brug for, og vi vil opfylde dit særlige krav.

Hovedprodukter:

Materiale	Symbol	Atomforhold	Renhed	Relativ tæthed	Lager dimensioner	Teknologi	Funktioner
Chrom	Cr	_____	99,5% ~ 99,95%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	God oxidationsbestandighed
Wolfram	W	_____	99,9% ~ 99,95%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	Høj hårdhed
Titanium	Ti	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	God slidstyrke
Nikkel	Ni	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	Stor korrosionsbestandighed
Molybdæn	Mo	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	Stor korrosionsbestandighed
Silicium	Si	_____	99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vacuum Sintering	Høj hårdhed
Sølv	Ag	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	God elektrisk og termisk ledningsevne
Tantal	Ta	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	Høj formbarhed
Kobber	Cu	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	Høj svejsbarhed, god termisk ledningsevne og korrosionsbestandighed
Grafit		_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vacuum Sintering	Høj hårdhed
Aluminium	Al	_____	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Vakuumsmeltning	God svejsbarhed, termisk ledningsevne og korrosionsbestandighed
Silicium-aluminium	SiAI	25/75 30/70 40/60 50/50	99,9% ~ 99,99%	> 99%	750x125x10mm 170x75x12mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	Høj svejsbarhed og god slidstyrke
Titan-aluminium	tielle	30/70 33/67 40/60 45/55 50/50 60/40 70/30 75/25 80/20	> 99,7% (2N7)	> 99%	754x154x18mm 331x174x22mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	Høj mekanisk styrke og god korrosionsbestandighed
Chrom-aluminium	CrAl	25/75 30/70 40/60 50/50	> 99,7% (2N7)	> 99%	754x154x18mm 490x96x8mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	God oxideringsmodstand og korrosionsbestandighed
Titanium-Aluminium-Silicium	TiAlSi	30/60/10 40/50/10	> 99,7% (2N7)	> 99%	754x154x18mm 331x174x22mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	Høj hårdhed og duktilitet
Chrom-Aluminium-Silicium	CrAlSi	30/60/10 40/50/10	> 99,7% (2N7)	> 99%	754x154x18mm 331x174x22mm	Hot Isostatisk Pressing (HIP)	God oxideringsmodstand og korrosionsbestandighed

Mere information:

Certificering: ISO9001

Gennemsnitlig kornstørrelse: 30-40 μm (national standard er 100 μm)

Form: Rektangulære mål, Runde mål

Andre specielle specifikationer er tilgængelige på kundens anmodning.

Kvalitetsanalyse af TiAl Sputtering Target

(Tag TiAl 30/70 ved% som prøve)

Hovedkomponent (vægt%)	Urenhedsindhold (%)
tielle	C	N	O	Fe	Si	S
> 99,7	0,01	0,006	0,2	0,06	0,02	0,002
	Ti	Al
	46.87%	balance

Dimension: 754x154x18mm

Sandtæthed: 3,31 (g / cm3)

Teoretisk densitet:> 99%

Den gennemsnitlige kornstørrelse af vores plane mål er 30-40μm, hvilket er langt under den nationale standard (100μm).

IKS Fordelene:

● Forskellige materialer, herunder: Sølv, Titanium, Aluminium, Silicon, Silicon-Aluminum Titanium-Aluminium-Silicon, Graphite og så videre, der passer til dine behov.

● Utrolig lille kornstørrelse og ensartet mikrostruktur sikrer konsekvent procesydelse gennem hele livet.

● Komplet homogenitet og høj renhedsgrad af mål sikrer, at belægningsprocessen er mere stabil, og de afsatte lag er af højere kvalitet.

● Udmærket tæthed sikrer, at belægningsprocessen kan drage fordel af et særligt højt ledningsevne

● De fantastiske sputteringshastigheder på grund af høj densitet kan hjælpe dig med at spare mere tid.

Ansøgning:

I de senere år er sputtering blevet anvendt i vid udstrækning i halvlederindustrien til tyndfilmafsættelse af forskellige materialer i integreret kredsløbsbehandling, arkitektonisk og automobilglas til energibesparelse, farverige dekorative belægninger til hardware, slidstærkt belægning til værktøj og forbrugsgoder samt deponering af metaller under fremstilling af cd'er mv.

Funktion af hårde slidbelægninger:

Giver hårde overflader med fremragende korrosionsbestandighed og slidstyrke til skæreværktøjer, stansning og forme forme for at øge deres servicetid, samtidig med at højere foderhastigheder, god skæreydelse og fremragende metalfjernelseshastigheder kan opnås nemt.

Når den bruges i bilmotorer, kan den også effektivt reducere friktionskoefficienten på overfladen på præcisionskomponenter.

Funktion af dekorative belægninger:

Sørg for god ridsefasthed og dekorative farverige overflader til hård belægning på mobiltelefoner, smykker, ure, briller, bilindretning, husholdningsapparater, badeværelse og køkkenudstyr mv.

Emballage: 1. Træ kasse

2. Karton

3. Som din anmodning

Betaling: T / T, L / C, osv.

Leveringstid: Normalt 20 ~ 30 dage efter betaling

Forsendelse: Med fly eller til søs