Kort introduktion af HIPIMS Technology

Magnetron sputtering teknologi er meget udbredt inden for belægning felt. Det bruges almindeligvis til både dekorative belægningsapplikationer og værktøjsbelægningsapplikationer. Men der er stadig mange begrænsninger af magnetron sputtering teknologi. For eksempel påvirkes magtets tæthed af magnetronsputteringmålene ved målets termiske belastning. Under stor sputteringstrøm bombarderer for store positive ioner bomuldsmålet, hvilket kan medføre, at forstøvningsmålet bliver overophedet og brændt, foruden er sputternes energi begrænset, og metalioniseringshastigheden er ikke høj.

I de senere år er der udviklet en højeffekt pulserende magnetron sputtering (HiPIMS) teknologi i ind-og udland, hvilket i høj grad svækker denne begrænsning. HiPIMS højdeffekt er ca. 100 gange den almindelige magnetronforstøvning, og forstøvningsmaterialet har en meget høj ioniseringshastighed. Denne højt ioniserede stråle indeholder ikke store partikler, og derfor kan HiPIMS let opnå film af høj kvalitet .

Da pulsaktionstiden er inden for et par hundrede mikrosekunder, er den gennemsnitlige effekt af HiPIMS ækvivalent med den almindelige magnetronforstøvning, således at kravet om afkøling af magnetronmål ikke øges. Selvom den øjeblikkelige kraft af højpuls magnetron sputtering er meget høj, er dens gennemsnitlige effekt ikke for høj, så den kan blive meget fremmet.