Sådan løser du problemet med filmens ujævnheder i magnetronpruttering?

1. Sørg for ensartethed og retning af magnetfeltet så meget som muligt for at danne et relativt ensartet rumligt magnetfelt.

2. Sikre ensartetheden af det øvre og det nederste tryk, vakuumkammeret skal udformes under hensyntagen til vakuumpumpens installationsposition, procesgasindtagstilstanden og udformningen af procesgasrørene i hulrummet.

3. Da magnetfeltet eller lufttrykket ikke er helt ideelt, kan ujævnheden af lufttrykket bruges til at kompensere for det ujævne magnetfelt og gøre den endelige film ensartet.

4. Afstand mellem mål og substrat er også en vigtig faktor, der påvirker filmens ensartethed.