High Power Intermediate Frequency Magnetron Sputtering Strømforsyning

High Power Intermediate Frequency Magnetron Sputtering Strømforsyning

Strømforsyning med høj effekt mellemfrekvens Magnetron Sputtering Strømforsyningsfunktioner ● MF-magnetronsputteringstrømkilden kan implementere bueskydningsfunktionen med rimelighed og hurtigt på basis af fuldt ud opfyldt strømkrav. Og strømforsyningen har perfekt display ...

  • Produkt introduktion

 

Funktioner

● MF magnetron sputtering strømkilde kan implementere funktionen af ​​bueskydning rimelig og hurtigt på basis af fuldt ud at opfylde strømkravet. Og strømforsyningen har perfekt display og beskyttelse underspænding, overspænding, overbelastning, overophedning osv. Det kan også sputter ikke-ledende mål og øge ioniseringshastigheden for effektivt at overvinde målforgiftning og unormal udledning.

● Strømforsyningen vedtager avancerede højfrekvente omformerens strømforsyningsteknologi og IGBT-effektmodul for at reducere udgangsenergilagringselementet, hvorfor belægningslaget er ekstremt tæt og glat.

● Ved hjælp af touchscreen-mikrocontrolleren er strømforsyningen meget integreret og kraftfuld med nem betjening. Visningen af ​​strøm og spænding er meget klar og intuitiv.

● PHP-bueundertrykningsteknologien sikrer, at brugerne kan kontrollere kvaliteten af ​​belægningslaget mere bekvemt i overfladebehandlingsprocessen. Ved at have funktionerne i spændingsstabilisering og ideel kupé de foue kan strømforsyningen effektivt hæmme bueformningen på emneoverfladen og forbedre produktionsudbyttet betydeligt såvel som overfladefinheden og filmadhæsionen af ​​pletteringsstykker.

● Strømforsyningen tilbyder tre tilstande (konstant spænding, konstant strøm og konstant strøm), hvorfra man vælger. Sammenlignet med den traditionelle konstante strømtilstand kan den konstante strømtilstand bedre sikre repeterbarheden af ​​belægningsprocessen.

● Strømforsyningen kan kommunikere med værtscomputeren via de digitale porte som f.eks. RS232, RS485, WIFI og så videre, som udvider sin kontrolfunktion.

● Med en bred vifte af udgangseffekt og frekvens kan strømforsyningen opfylde behovene i forskellige procesapplikationer.

● Hovedparametre af det kan justeres inden for et stort område.

Specifikation

Produktmodel

EP80A125H

Input Power & Frequency (V / Hz) Thre Phase og Four Wire

AC380 + N

60Hz

Udgangsstrømområde (A)

0 ~ 80

Nøjagtighed for konstant spænding og konstant strøm

≤1%

Nominel udgangsspænding (DCV)

1250

Maksimal udgangseffekt (KW)

100

Toldsats (%)

80

Vægt (KG)

80

Eksterne Dimensioner (MM)

575 (D) × 480 (W) x 250 (H)

Isolationsgrad

B

Produktivitet(%)

90

Kapslingsbeskyttelsesklasse

IP21

Driftstilstand

Konstant spænding, konstant strøm og konstant strømtilstande er valgfri. Konventionel udgang: Konstant strøm

Kølingstilstand

Vand-Køling

Eksternt interface

Denne serie produkter alle vedtage Touch Screen Microcontroller

 

Ydelse Sammenligning Sammenlignet med 30kw MF Magnetron Sputtering Strømforsyning

Produkttilstand

30kW Midfrekvens

EP125A80H

Frekvens (kHz)

40

40

Toldsats (%)

80

80

Spænding (V)

800

800

(A)

38

125

Maksimal effekt (KW)

30

100

 

Fordele ved High Power MF Magnetron Sputtering Strømkilde EP125A80H

● Høj rumudnyttelse af ovn

EP125A80H kræver mindre mellemfrekvensmål og sikrer højere udnyttelse af ovn og bedre produktionskapacitet.

● Fremragende bueundertrykningsteknologi

EP125A80H vedtager PHP-bue-suppressionsteknologi, så brugerne nemt kan styre filmens kvalitet ved overfladebehandling for at få bedre filmstruktur.

● God kompatibilitet

Brugere kan erstatte den eksisterende magnetron sputtering strømforsyning direkte med EP125A80H, og behøver kun at udskifte kølesystemet i stedet for at erstatte katodematerialerne og magnetfelterne.

● Højt forhold mellem strøm og volumen

Højt forhold mellem strøm og volumen gør integrationen af ​​installationsinstallationen nemmere for brugerne.

 

Ansøgning

High power MF magnetron sputtering strømkilde er meget udbredt i plasma, fysiske, kemiske, medicinske og forskellige videnskabelige forskningsområder, det kan opfylde en bred vifte af proces krav især i vakuum coating udstyr.


Næste: Nej →
Send forespørgsel

(0/10)

clearall